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東莞真空鍍膜的原理與技術(shù)概述

真空鍍膜的原理就是在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料,使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件(金屬、半導(dǎo)體或絕緣體)表面而形成薄膜的一種方法。例如,真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

  真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面,它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ),利用物理或化學(xué)方法,吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù),為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡(jiǎn)單地說(shuō),在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射,使其在被涂覆的物體(稱(chēng)基板、基片或基體)上凝固并沉積的方法,稱(chēng)為真空鍍膜。


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  眾所周知,在某些材料的表面上,只要鍍上一層薄膜,就能使材料具有許多新的、良好的物理和化學(xué)性能。20世紀(jì)70年代,在物體表面上真空鍍膜的方法主要有電鍍法和化學(xué)鍍法。前者是通過(guò)通電使電解液電解,被電解的離子鍍到作為另一個(gè)電極的基體表面上,因此這種真空鍍膜的條件,基體必須是電的良導(dǎo)體,而且薄膜厚度也難以控制。后者是采用化學(xué)還原法,必須把膜材配制成溶液,并能迅速參加還原反應(yīng),這種鍍膜方法不僅薄膜的結(jié)合強(qiáng)度差,而且鍍膜既不均勻也不易控制,同時(shí)還會(huì)產(chǎn)生大量的廢液,造成嚴(yán)重的污染。因此,這兩種被人們稱(chēng)之為濕式鍍膜法的真空鍍膜工藝受到了很大的限制。

  真空鍍膜則是相對(duì)于上述的濕式鍍膜方法而發(fā)展起來(lái)的一種新型鍍膜技術(shù),通常稱(chēng)為干式鍍膜技術(shù)。


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