真空鍍膜時若是真空度低的話鍍好的膜層會被氧化,鍍出來的產(chǎn)品會發(fā)黑,時間一長還有可能會發(fā)黃。若是真空鍍膜時真空度高的話鍍出來的膜的質(zhì)量比較好。
在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發(fā)或濺射,使其在被涂覆的物體(稱基板、基片或基體)上凝固并沉積的方法即為真空鍍膜。真空鍍膜技術(shù)都需要有一個蒸發(fā)源或靶子,以便把蒸發(fā)制膜的材料轉(zhuǎn)化成氣體。
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