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致力于高端涂層技術的研究和推廣
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今天我們就一起來了解一下真空鍍膜的技術分類。
一、真空鍍膜的物理氣相沉積技術是指在真空條件下，利用各種物理方法，將鍍料氣化成原子、分子或離子，直接沉積在基體表面的方法。制備硬質反應膜多采用物理氣相沉積方法制作，利用物質熱蒸發(fā)、離子轟擊時物質表面原子濺射等物理過程，實現(xiàn)物質原子從源物質到膜的控制轉移過程。物理氣相沉積技術具有薄膜/基結合力好、薄膜均勻致密、薄膜厚度控制性好、應用靶材廣、濺射范圍廣、可沉積薄膜、成分穩(wěn)定的合金薄膜和重復性好等優(yōu)點。同時，物理氣相沉積技術由于其工藝處理溫度可控制在500℃以下，可作為高速鋼和硬質合金類薄膜刀具的結束處理工藝。由于采用物理氣相沉積技術可以大大提高刀具的切削性能，人們在競爭開發(fā)高性能、高可靠性設備的同時，對其應用領域的擴展，特別是高速鋼、硬質合金和陶瓷類刀具的應用進行了更深入的研究。
二、化學氣相沉積技術是將含有構成薄膜元素的單質氣體或化合物供給基體，利用氣相作用或基體表面的化學反應，在基體上制作金屬或化合物薄膜的方法，主要包括常壓化學氣相沉積、低壓化學氣相沉積和CVD和PVD兼具特征的等離子化學氣相沉積等。
那么今天的講解就先到這里了，相信大家對真空鍍膜的技術分類也有了一定的認識。非常感謝您的耐心閱讀。
今天我們就一起來了解一下真空鍍膜的技術分類。
一、真空鍍膜的物理氣相沉積技術是指在真空條件下，利用各種物理方法，將鍍料氣化成原子、分子或離子，直接沉積在基體表面的方法。制備硬質反應膜多采用物理氣相沉積方法制作，利用物質熱蒸發(fā)、離子轟擊時物質表面原子濺射等物理過程，實現(xiàn)物質原子從源物質到膜的控制轉移過程。物理氣相沉積技術具有薄膜/基結合力好、薄膜均勻致密、薄膜厚度控制性好、應用靶材廣、濺射范圍廣、可沉積薄膜、成分穩(wěn)定的合金薄膜和重復性好等優(yōu)點。同時，物理氣相沉積技術由于其工藝處理溫度可控制在500℃以下，可作為高速鋼和硬質合金類薄膜刀具的結束處理工藝。由于采用物理氣相沉積技術可以大大提高刀具的切削性能，人們在競爭開發(fā)高性能、高可靠性設備的同時，對其應用領域的擴展，特別是高速鋼、硬質合金和陶瓷類刀具的應用進行了更深入的研究。
二、化學氣相沉積技術是將含有構成薄膜元素的單質氣體或化合物供給基體，利用氣相作用或基體表面的化學反應，在基體上制作金屬或化合物薄膜的方法，主要包括常壓化學氣相沉積、低壓化學氣相沉積和CVD和PVD兼具特征的等離子化學氣相沉積等。
那么今天的講解就先到這里了，相信大家對真空鍍膜的技術分類也有了一定的認識。非常感謝您的耐心閱讀。