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類金剛石薄膜(DLC薄膜)的制備發(fā)展歷史

有相關(guān)化學(xué)知識(shí)的人都知道,石墨在常溫下是一種非常穩(wěn)定的同素異形體,它是由碳原子以sp2雜化鍵方式而形成三配位鍵合結(jié)構(gòu);而金剛石在常溫下則沒(méi)有石墨這么穩(wěn)定。從熱動(dòng)力學(xué)上講,石墨的形成優(yōu)于金剛石的形成,從而意味著sp2雜化鍵只能在非平衡過(guò)程中形成。

類金剛石薄膜(DLC薄膜)是由亞穩(wěn)態(tài)材料形成,在制備的方法中必須要有荷能離子轟擊生長(zhǎng)表面這一關(guān)鍵。自1971年美國(guó)科學(xué)家Aisenberg和Chabot利用碳離子束沉積出類金剛石薄膜(DLC薄膜)以來(lái),人們也對(duì)物理氣相沉積和化學(xué)氣相沉積以及液相法制備類金剛石薄膜(DLC薄膜)的方法和技術(shù)不斷改進(jìn)和研究。

至今,在對(duì)類金剛石薄膜(DLC薄膜)的制備技術(shù)和上也有了很大的突破。人們可以通過(guò)氣相法和沉積法輕松的制備類金剛石薄膜(DLC薄膜)。類金剛石薄膜(DLC薄膜)的制備技術(shù)目前廣泛用于電子、機(jī)械、宇航、裝飾、和信息等領(lǐng)域。我國(guó)類金剛石薄膜(DLC薄膜)的制備技術(shù)正處于不斷發(fā)展和完善階段,有著巨大市場(chǎng)潛力。

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