類金剛石薄膜是由sp3和sp2鍵組成的亞穩(wěn)態(tài)材料,具有金剛石和石墨的優(yōu)良特性,硬度高。高電阻率光學(xué)性能好,摩擦學(xué)特性好。因此今天就來了解一下類金剛石薄膜的涂覆工藝流程都有哪些?
一、工件基體處理。這一步很重要。只有將工件拋光到小于Ra0.2um,涂覆后的工件才能獲得滿意的表面質(zhì)量,這對(duì)于一些成型后有光學(xué)性能要求的零件非常重要,如成型光學(xué)鏡頭和LED零件。操作時(shí)要注意基體表面處理不能留下死角,影響膜層能否與基體牢固結(jié)合。
二、充分清洗。充分清洗要涂覆的工件,涂覆的母材、質(zhì)量水平和幾何形狀決定了清洗過程。工件安裝在設(shè)定的夾具上,夾具是在優(yōu)化腔體裝載尺寸、保證均勻涂層的基礎(chǔ)上設(shè)計(jì)的。清潔方法是將真空室抽真空到10-6托(高真空),以消除系統(tǒng)中的任何污染物,將惰性氣體引入真空室,使其離子化,產(chǎn)生輝光放電(等離子體),這是氣體清潔階段,使零件做好金屬沉淀準(zhǔn)備。
三、金屬沉淀。在用于沉淀的固體金屬上(指靶材)加載高電流、低電壓電弧,金屬蒸發(fā),瞬間離子化。在高能的作用下,屬離子通過惰性氣體或活性氣體進(jìn)入腔體,沉淀在工件上。蒸發(fā)的金屬在金屬沉淀過程中保持不變。在激活沉淀過程中,改變氣體的體積或類型會(huì)改變膜的性質(zhì),形成碳化物、氮化物或氧化物等陶瓷。同樣,不同的膜也可以通過改變靶材的材料來產(chǎn)生。
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